华海清科晶圆擦洗抛光设备专利震撼发布

华海清科股份有限公司近日震撼发布一项关于晶圆擦洗及抛光设备的新专利（CN119542201A），该专利设计了一种创新的晶圆擦洗设备，通过巧妙结合擦洗刷和包含伸缩模块与磁吸模块的调控单元，精确控制擦洗刷与晶圆间的压力，有效解决了传统设备压力控制不稳定的难题。 该技术提升了晶圆擦洗效率和清洁度，为半导体制造工艺带来突破性进展。 这项专利技术的公布，标志着华海清科在高端半导体设备领域取得重大进展，值得业界关注。

华海清科股份有限公司近日公布一项名为“一种晶圆擦洗设备、晶圆擦洗系统和抛光设备”的新专利（申请公布号：CN119542201A，申请公布日：2025年2月28日）。

该专利设计了一种创新的晶圆擦洗设备，其核心在于巧妙地结合了擦洗刷和一个包含伸缩模块与磁吸模块的调控单元。调控单元位于擦洗刷背对晶圆的一侧，通过伸缩模块的轴向伸缩来精确控制擦洗刷与晶圆之间的压力。 擦洗刷本身由第一转轴和刷头组成，第一转轴的一端连接刷头，另一端则通过磁吸模块与调控单元连接。这种磁吸连接方式赋予了系统柔性，确保在擦洗过程中始终保持刷头对晶圆表面施加恒定的压力。 这项技术创新有效解决了传统晶圆擦洗设备中压力控制不稳定的问题，提升了擦洗效率和晶圆清洁度。

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