和远气体一专利获认证，可将CO2杂质脱除至0.1ppm以下

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和远气体喜获一项发明专利！近日，和远气体发布公告，宣布公司获得一项名为“一种半导体用超高纯氯化氢气体的制备装置及其工艺”的发明专利（专利号：ZL202111321362.7）。

该专利技术以工业产品气体为原料，巧妙地结合了高分子渗透膜、金属阳离子交换树脂、稀土金属化合物脱水以及高压精馏技术。 这项创新技术能够将二氧化碳杂质含量去除至0.1ppm以下，金属离子含量降低至10ppt以下。 与现有技术相比，该工艺不再依赖特定原料，不仅能生产超高纯氯化氢气体，还能同时产出多种不同纯度的氯化氢气体，有效减少尾气排放并简化处理流程，具备良好的工业化应用前景。

和远气体方面表示，虽然该专利不会对公司短期经营业绩造成重大影响，但它将显著提升公司在电子特气领域的科技实力和技术储备，为公司未来发展提供坚实的技术支撑。

（校对/黄仁贵）

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