半导体行业新挑战：光刻胶价格上涨 10%-20%

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本站 12 月 14 日消息，根据韩媒 The Elec 报道，日本住友化学子公司东友精密化学（Dongwoo Fine-Chem）通知韩国半导体公司，表示由于原材料和劳动力费用不断上涨，KrF 和 L 系列光刻胶供货价格将上涨 10-20%。

本站注：光刻胶（Photoresist）又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X 射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

在光刻工艺中，光刻胶是至关重要的材料之一，主要用于微型图案的加工，包括积体电路和分立器件

光刻胶品种众多，本次提价涉及的 KrF 光刻胶属于高端光刻胶，是未来国内外厂商的主要竞争市场之一。

目前光刻胶市场一直由东京大贺工业、杜邦、JSR、信越化学、住友化学和东进半导体等主要制造商主导。

光刻胶行业需要高度专业化，涉及到复杂的树脂、感光酸和添加剂的配方，每个公司都将其视为商业机密

产品开发过程的复杂性和耗时性源自于两个方面：首先，存在巨大的技术壁垒；其次，从实验室试验到市场生产需要高纯度和优异性能

此外，满足客户要求和生产线的调整需要 1 到 3 年的验证，让客户难以转移现有合作的光刻胶公司。

面对技术和以客户为中心的挑战，光刻胶公司展现出了强大的谈判能力。最近光刻胶价格的上涨引起了韩国半导体行业的明显反应

晶圆代工厂内部人士评论说：

面对不断上涨的光刻胶价格，晶圆代工厂不得不将部分成本转嫁给客户（无晶圆厂公司）

东友精密化学公司提高光刻胶的价格可能会对晶圆代工厂和无晶圆厂行业的盈利能力造成下降的影响

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