芯碁微装“曝光总成及具有其的光刻设备”专利公布

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合肥芯碁微电子装备股份有限公司近日公布一项关于“曝光总成及具有其的光刻设备”的专利（申请公布号：CN119126500A，申请公布日：2024年10月13日）。

该专利公开了一种新型曝光总成及其应用于光刻设备的方案。该曝光总成包含光源、分束器、承载件和检测设备。分束器与光源相对放置，其设计能够将经过的光线分解并导向至不同方向；承载件则与分束器相对放置，用于承载工件；检测设备同样与分束器相对放置，位于分束器背离承载件的一侧。光线经分束器后进入检测设备，进行传感分析。

专利技术亮点在于，通过在曝光总成中集成分束器，实现对光线的反射和分解，使检测设备能够检测承载件反射的光线，从而实时监测和反馈曝光总成的使用情况。系统根据检测结果调整曝光性能，确保曝光总成在使用过程中始终满足当前需求，最终提升曝光效果和效率。

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