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SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机

来源:IT之家 2024-11-21 17:00:35 0浏览 收藏

golang学习网今天将给大家带来《SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机》,感兴趣的朋友请继续看下去吧!以下内容将会涉及到等等知识点,如果你是正在学习科技周边或者已经是大佬级别了,都非常欢迎也希望大家都能给我建议评论哈~希望能帮助到大家!

本站 8 月 19 日消息,据韩媒 ZDNet Korea 报道,SK 海力士 EUV 材料技术人员当地时间本月 12 日出席技术会议时向媒体表示,该企业计划于 2026 年首次导入 ASML 的 High NA EUV 光刻机。SK 海力士的一位工程师表示该公司新近成立了一个 High NA EUV 研发团队,正致力于将 High NA EUV 光刻技术应用到最先进 DRAM 内存的生产上。

SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机

综合本站已有报道,在几大先进逻辑制程与存储半导体企业中,
  1. 英特尔:

    • 已率先拿下了全球第一台商用 High NA EUV 光刻机
    • 第二台 High NA 机台已在运至俄勒冈州研发晶圆厂的途中
  2. 台积电:

    • 第一台 High NA EUV 光刻机有望于 2024 年内交付
  3. 三星电子:

    • 第一台 High NA EUV 光刻机有望于 2024 年四季度至 2025 年一季度交付

好了,本文到此结束,带大家了解了《SK 海力士计划 2026 年首次导入 ASML High NA EUV 光刻机》,希望本文对你有所帮助!关注golang学习网公众号,给大家分享更多科技周边知识!

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