左蓝微声发布表面波谐振器质量负载制备专利

天眼查显示，左蓝微(江苏)电子技术有限公司发布了“一种声表面波谐振器质量负载制备工艺及半导体结构”专利，申请公布日为2025年2月28日，公布号为CN119543860A。该专利介绍了一种创新的声表面波谐振器质量负载制备工艺，通过光刻和沉积技术，在晶圆上形成IDT材料和质量负载材料薄膜，显著降低了套刻精度要求，提升了产品的一致性和质量。

天眼查显示，左蓝微(江苏)电子技术有限公司“一种声表面波谐振器质量负载制备工艺及半导体结构”专利公布，申请公布日为2025年2月28日，申请公布号为CN119543860A。

本发明公开了一种声表面波谐振器质量负载制备工艺及半导体结构，该制备工艺包括：准备晶圆；利用光刻工艺在晶圆上形成第一光刻胶图层；在形成有第一光刻胶图层的晶圆上按照设计厚度要求沉积一层IDT材料的薄膜；在完成IDT镀膜后的晶圆上形成第二光刻胶图层；在形成有第二光刻胶图层的晶圆上按照设计厚度要求沉积一层质量负载材料的薄膜；最后剥离晶圆上的光刻胶，使得覆盖于光刻胶上的IDT材料薄膜和/或质量负载材料薄膜一同被剥离，未覆盖于光刻胶上的IDT材料薄膜和质量负载材料薄膜则被保留。采用该工艺大大降低了对套刻精度的要求，能更好的控制产品的一致性、提高产品质量。

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