京东方“掩膜构件及版”专利震撼亮相

京东方近日发布一项重磅专利——“掩膜构件以及掩膜版”（专利号：CN119530707A），该专利设计了一种新型掩膜构件和掩膜版，有效解决了传统掩膜版药液残留问题。 通过巧妙设计的漏液区和可灵活贴合的构件本体，该专利提升了显示面板的显示性能，为高品质显示技术带来了突破性进展。 此项专利技术的公布，标志着京东方在显示面板核心技术领域取得了新的突破，进一步巩固其行业领先地位。

成都京东方光电科技有限公司近日公布一项名为“掩膜构件以及掩膜版”的新专利，申请公布日为2025年2月28日，申请公布号为CN119530707A。

该专利设计了一种新型掩膜构件和掩膜版。掩膜构件与掩膜框配合使用，形成完整的掩膜版。掩膜框包含框体以及在框体内部沿第一方向延伸的第一支撑条和沿第二方向延伸的第二支撑条。掩膜构件则包含构件本体和一个漏液区。漏液区内设有漏液孔，用于排出掩膜版使用后残留在缝隙中的液体，从而减少药液残留，提升显示面板的显示性能。 构件本体设计巧妙，在作为遮挡掩膜条使用时，可与第一支撑条和/或第二支撑条贴合；而在作为对准掩膜条使用时，则可与掩膜框的第一边框和/或第二边框贴合。

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