北方华创“进气装置及半导体设备”专利揭秘

北方华创微电子装备有限公司近日公开一项名为“进气装置及半导体设备”的专利（申请公布号：CN119433507A），旨在优化半导体设备的气体输送和分配。该专利设计了一种包含匀流结构和气体分配结构的新型进气装置，通过环形匀流腔和配气腔的巧妙组合，以及气体分配结构在不同位置的切换，实现气体先均匀化再非均匀排出的功能，从而提升半导体工艺的效率和精度。此项专利技术的曝光，预示着北方华创在半导体设备领域的技术创新持续推进，进一步巩固其在国内市场的竞争力。

北方华创微电子装备有限公司一项名为“进气装置及半导体设备”的专利于2025年2月14日公开，申请公布号为CN119433507A。天眼查信息显示，该专利设计了一种新型进气装置。

该装置包含匀流结构和气体分配结构两部分。匀流结构由多个环形匀流腔和与其相连的进气管道构成，其外环侧面均匀分布着多个第一出气孔。气体分配结构则由多个与匀流腔同轴的环形配气腔组成，外周表面非均匀分布着多个第二出气孔。 气体分配结构可在第一位置和第二位置之间移动：第一位置时，它环绕匀流结构外周，配气腔进气端与第一出气孔密封连接，气体经第二出气孔非均匀排出；第二位置时，它与匀流结构错开，使第一出气孔暴露于半导体工艺腔室，实现均匀出气。 此设计旨在优化半导体设备的气体输送和分配。

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