宁波冠石半导体光掩模版项目投资超10亿，顺利通线

宁波冠石半导体光掩模版制造项目正式投产！该项目投资超10亿元，历时不到两年建成，于3月19日举行通线仪式，标志着我国半导体光掩模版国产化进程取得重大突破。项目成功交付55纳米光掩模版产品，并实现40纳米产线通线，将填补国内高精度光掩模版市场空白，广泛应用于人工智能、高性能计算等多个领域，有效打破国外技术垄断。 宁波冠石半导体此举，为我国集成电路产业链安全提供了有力支撑。

宁波冠石半导体光掩模版制造项目正式投产！宁波前湾新区近日发布消息，宁波冠石半导体光掩模版制造项目于3月19日举行新品发布暨通线仪式，标志着该项目正式投产。

（来源：宁波前湾新区发布）

宁波冠石半导体专注于半导体光掩模版制造。该项目自2023年5月签约，同年10月开工，仅用不到两年时间便完成建设并投产，固定资产投资超过10亿元，亩均有效投资强度超过1500万元。

2024年7月，宁波冠石半导体引进首台电子束掩模版光刻机，这是其40纳米技术节点量产和28纳米技术节点研发的关键设备。

光掩模版是微电子制造中光刻工艺的核心部件，如同相机的“底片”，承载着集成电路的设计和工艺信息。 目前，我国高精度半导体光掩模版严重依赖进口，国产化率极低。

宁波冠石已成功交付55纳米光掩模版产品，并实现40纳米产线通线，其产品将广泛应用于人工智能、高性能计算、新能源汽车和消费电子等领域。 这标志着我国半导体光掩模版国产化进程取得重大突破。

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